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失效分析常用哪些技術?SEM、EDS、金相分析揭秘!

在失效分析中,這三種技術通常協同使用,形成一個從宏觀到微觀、從形貌到成分的完整證據鏈。它們的關系與典型工作流程如下:

核心技術詳解

1. 金相分析 - 失效分析的“基石”

核心原理:通過光學顯微鏡觀察材料內部的微觀組織結果。這需要將樣品切割、鑲嵌、研磨、拋光,甚至用特定化學試劑侵蝕,以顯示晶界、相組成等。

能做什么?

觀察裂紋的形態和走向(是穿晶還是沿晶開裂?)。

分析材料的晶粒大小(晶粒粗大可能導致性能劣化)。

檢查孔隙、夾雜物的分布和數量。

觀察涂層/鍍層的厚度和均勻性。

判斷熱處理工藝是否恰當(如脫碳層、過熱組織)。

優勢:制樣相對簡單,視野大,是定位重點區域的“第一道關卡”。

局限:放大倍數和景深有限,無法進行元素分析。

2. SEM - 洞察微觀世界的“慧眼”

核心原理:用聚焦的電子束掃描樣品表面,通過檢測激發出的二次電子、背散射電子等信號來成像。景深極大,圖像呈三維立體感。

能做什么?

韌性斷裂:呈現“韌窩”狀,像拉絲后的金屬。

脆性斷裂:呈現“解理臺階”或“冰糖狀”沿晶斷裂形貌。

疲勞斷裂:可見清晰的“疲勞輝紋”,對應每一次應力循環。

高倍率觀察:輕松達到數萬至數十萬倍,觀察納米級結構。

斷口分析:這是SEM最經典的應用。通過觀察斷口的形貌,可以判斷斷裂模式:

觀察表面微觀缺陷:如涂層剝落、腐蝕產物、微小的焊接裂紋。

優勢:分辨率極高、景深大、圖像立體感強。

3. EDS - 元素成分的“指紋鑒定”

核心原理:通常是SEM的附加功能。電子束轟擊樣品時,會激發出特征X射線。不同元素發射的X射線能量不同,通過探測這些能量,就可以確定該點的元素組成和大致含量。

能做什么?

微區成分分析:對SEM圖像中看到的某個特定點、線或區域進行元素鑒定。

異物分析:分析導致短路的污染物、腐蝕產物、夾雜物的成分。

元素分布面掃描:生成元素的分布圖,直觀顯示特定元素(如氧、氯)在裂紋或腐蝕坑周圍的富集情況。

鍍層厚度及成分測定。

優勢:能快速進行元素定性、半定量分析,與SEM形貌觀察無縫銜接。

局限:對輕元素(如H、Li、Be)分析能力弱,是半定量分析。

三、 實戰案例:PCB焊點開裂失效分析

如何將上述技術綜合運用呢?我們以一個典型的案例來說明:

1.問題描述:一批智能手機在跌落測試后出現功能失效。

2.分析過程:

步驟一:宏觀檢查→ 發現某個BGA封裝的芯片周圍有細微裂紋。

步驟二:金相分析→ 將故障芯片連同PCB板一起切割、鑲嵌、拋光。在顯微鏡下清晰看到裂紋從焊球內部延伸至與PCB焊盤的界面。

步驟三:SEM觀察→ 將金相制樣的裂紋斷面小心打開(或直接聚焦離子束切割),在SEM下觀察斷口形貌。發現斷面呈現脆性斷裂特征,而非應有的韌性韌窩。

步驟四:EDS分析→ 在SEM下,對脆性斷口表面進行EDS點掃描和面掃描,發現有大量的氯元素和氧元素富集。

3.結論:

失效模式:焊點界面脆性開裂。

根本原因:焊點在生產過程中被含氯的助焊劑污染,且在后續未清洗干凈,導致在應力作用下發生應力腐蝕開裂。

改進措施:優化焊接工藝,加強清洗流程。

總結

金相分析、SEM和EDS構成了失效分析的“鐵三角”:

金相分析告訴我們“問題在哪里”(定位缺陷)。

SEM告訴我們“它長什么樣”(判斷斷裂模式)。

EDS告訴我們“它是什么組成的”(追溯污染源或材料問題)。

將三者有機結合,就能由表及里、從形貌到成分,系統地揭示失效的真相,為改進設計、工藝和材料提供最直接的科學依據。


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